公司成立於2010年,是具備關鍵技術攻關能力,擁有自主知識產權的獨立第三方半導體掩模版廠商。公司將跟隨國家半導體行業發展戰略,圍繞高端半導體芯片掩模版領域,持續加大研發投入,逐步實現90nm、65nm以及更高節點掩模版的量產與國產化配套,深耕特色工藝,突破高端製程,立志成爲國內一流、國際領先的半導體光罩標杆企業。公司主營業務爲半導體掩模版的研發、生產和銷售。公司主要產品爲掩模版。